
Technow.id – ASML, perusahaan asal Belanda pengembang mesin litografi ekstrem ultraviolet (EUV), telah memulai integrasi High‑Numerical Aperture (High‑NA) EUV ke jaringan produksi Intel pada awal 2025. Teknologi ini merupakan lompatan besar dalam manufaktur chip generasi selanjutnya dengan presisi lebih tinggi dan efisiensi produksi yang meningkat.
🔍 Apa Keunggulan High‑NA EUV?
-
Resolusi ultra tinggi: mesin High‑NA meningkatkan numerical aperture dari 0.33 menjadi 0.55, memungkinkan pembuatan transistor pada node <2 nm, lebih kecil dan efisien dibanding mesin EUV sebelumnya
-
Lebih efisien: Intel menggunakan hanya satu eksposur untuk satu pola di wafer, menggantikan tiga eksposur dan 40 tahapan pada sistem lama—menghemat waktu dan biaya proses
⚙️ Uji Coba Produksi oleh Intel — Tingkat Keandalan Tinggi
-
Intel berhasil memproses 30.000 wafer dalam satu kuartal menggunakan mesin High‑NA ini, dengan reliabilitas dua kali lipat lebih stabil dari generasi sebelumnya
-
Saat ini Intel menguji mesin ini menggunakan proses 18A, dan berencana menerapkannya sepenuhnya untuk generasi 14A yang akan datang
📈 Pasar & Permintaan Global
-
Penjualan mesin EUV, termasuk High‑NA, diperkirakan tumbuh +49 % pada tahun 2025, menyumbang sekitar €11,1 miliar, sebagian besar akibat lonjakan permintaan AI dan chip performa tinggi
-
Permintaan dari industri semikonduktor AS dan Taiwan tetap kuat, sementara permintaan dari China berada di rentang 25–27 % dari seluruh penjualan ASML, meski ada kekhawatiran regulasi ekspor ke sana
🌍 Dampak Global & Tantangan Geopolitik
-
ASML saat ini memegang monopoli global di segment EUV, dengan harga per unit antara US$ 220–400 juta, tergantung versinya
-
Produknya jadi pusat kebijakan strategis, karena teknologi ini sangat berkaitan dengan keamanan dan daya saing nasional. ASML dikecualikan dari tarif AS–EU untuk menjaga kelancaran pasokan alat litografi canggih di AS
-
Sementara itu, chipmaker China masih menggunakan DUV buatan ASML karena kendala ekspor dan keterlambatan pengembangan EUV sendiri
✅ Kesimpulan
Pemakaian ASML High‑NA EUV oleh Intel menandai transisi dari robotik litografi ke skala industri berpresisi nanometer. Dengan efisiensi yang lebih tinggi, daya tahan lebih baik, dan optimasi proses, teknologi ini menjadi tonggak baru bagi masa depan chip AI, edge computing, dan prosesor seluler canggih.
📌 Disclaimer
Artikel ini disusun berdasarkan informasi resmi dari Reuters, Journalistic media seperti Notebookcheck, S&P Global, dan halaman resmi produk ASML.
🎥 Images & video referensi © ASML / Intel
🔍 Artikel ini dibuat untuk tujuan edukasi dan review teknologi semata.
Be the first to leave a comment